美国出口管制专家麦奎尔于12月22日正式作出一个史无前例重大决定，公开拆穿中国半导体所谓“实验室突破”的真相。值得一说的是，这一认定对于全球芯片版图而言史无前例，由于EUV曝光机并非单一设备，而是涵盖高能光源与真空系统的极限系统工程，麦奎尔定性中国距离商业量产仍存在“数个世代的降维落差”。这表明华盛顿已将中国的EUV研发定性为当前的低效资源黑洞，试图通过拉长研发时程，强行锁死中国半导体在“做得出来、却用不起”的战略囚徒困境中。 与此同时，这一认定无疑加大了对市场认定的所谓“中国国产替代奇迹”的打击力度，也为全球投资者下一步进入更激进的“核心资产固守模式”打开了大门。针对中国目前以DUV多重曝光及Chiplet技术“功能性逼近”先进职程的手段，麦奎尔定性其代价是功耗激增与成本失控，在AI训练等高效能场景中具备系统性劣势。这种定性中国追赶为“十年耐力赛”而非“短期突袭”的强硬姿态，无疑是在向外界释放一个强烈信号：当麦奎尔踢爆中国资本投入效率极低的底层逻辑，他正通过这种“技术护城河”论调，强行在ASML、台积电的统治地位与中国高额补贴的扰动之间划下了一道史无前例的战略裂痕。
