又出2名内鬼，损失巨大！ 北京屹唐半导体的两名核心研发骨干，前脚刚从公司离职，后脚就转身投奔了美国的应用材料公司。这两人最离谱的操作，是把在老东家研发出的“等离子体源”核心技术，转头就拿去申请了个人专利，甚至还大大方方签上了自己的名，目前屹唐半导体已经正式向法院提起诉讼了。 涉事的美国应用材料公司是全球半导体和显示设备供应商巨头，拥有超2.2万项专利，也是第一家进入中国的国际半导体设备公司。该公司一边布局全球生产基地，强化市场主导地位，一边被屹唐半导体指控通过招募竞争对手员工的方式获取技术。 两名涉案人员均来自屹唐旗下全资子公司MattsonTechnology,Inc.（简称MTI），该子公司是2016年北京亦庄国资主导收购美国应用材料旗下资产所得。二人离职后入职应用材料，屹唐半导体指控他们非法获取公司等离子体源及晶圆表面处理核心技术秘密，并以个人名义提交相关发明专利申请，试图伪装成离职后的独立研发成果。屹唐在起诉书中列出37项证据，包括离职员工邮箱里未删除的报价单、带有“YT”内部编号的图纸等。 屹唐方面已固定完整证据，于2025年8月向北京知识产权法院提起诉讼，目前案件已立案待审。此次被侵权的技术，是干法去胶设备和蚀刻设备的核心，通过高浓度、稳定均匀的等离子体实现晶圆表面处理，直接影响芯片制造的良率与性能。 屹唐凭借该技术实现了多项突破，其干法去胶设备全球市占率34.6%，位居世界第二，是唯一进入台积电5纳米产线的中国设备；快速热处理设备全球市占率13.05%，为国内唯一实现量产的产品；干法刻蚀设备挺进全球前十，服务英特尔、三星等顶级芯片厂。 该技术是高端芯片制造过程中不可或缺的环节，应用材料被指获取该技术后，不仅可能快速复制相关产品，蚕食屹唐已有的市场份额，还会影响国内多家芯片工厂的合作项目推进，对行业整体发展进度造成冲击。 半导体行业的技术保密维权，向来面临诸多难题。技术认定流程复杂、取证周期漫长、维权成本高昂，且部分技术秘密可能在诉讼过程中被非法应用，导致企业损失进一步扩大。这也倒逼行业企业加快完善内部保密体系，同时优化人才留存机制，从源头降低泄密风险。 屹唐此次提出9999万元的索赔金额，涵盖了研发投入、市场损失等多项成本，是行业内企业针对国际巨头的重要维权行动，该案的审理结果将对后续类似纠纷处理产生深远影响。 如今的半导体行业竞争，早已不止于技术和资本的比拼，人才流动中的技术保护、专利布局等环节同样关键。企业在深耕技术研发的同时，必须筑牢内部保密防线，才能在日趋激烈的市场竞争中守住核心优势，实现持续发展。
