中国采用多次曝光堆叠技术生产出来5nm芯片,解决了5nm芯片的零突破,也只是解决了有的问题,吃不饱,饿肚子还是一个严重问题。但他为我们后继工作打下了基础,一旦我们的EUV光刻机量产,良品率和加工技术的升级,都水到渠成,成本也会快速下降,甚至第一次产出成本就会比台积电低很多,这是可预料的。

中国采用多次曝光堆叠技术生产出来5nm芯片,解决了5nm芯片的零突破,也只是解决了有的问题,吃不饱,饿肚子还是一个严重问题。但他为我们后继工作打下了基础,一旦我们的EUV光刻机量产,良品率和加工技术的升级,都水到渠成,成本也会快速下降,甚至第一次产出成本就会比台积电低很多,这是可预料的。

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