光刻机技术很难突破吗? 光刻机技术确实难突破。它被誉为“现代工业皇冠上的明珠”,是芯片制造最关键设备,决定了半导体产业链的“天花板”。 难就难在它需要无数顶尖技术协同。比如极限精度方面,要把纳米级图案“印”在硅片上,光的波长极短,定位精度误差不能超几个纳米,镜片表面误差要控制在原子级别,任何小误差都会让芯片报废。EUV光源也很难产生,要把锡滴悬空喷射,用激光两次击中炸出等离子体才行。 目前全球仅ASML有EUV光刻机制造技术,还不卖给中国。光刻机三大核心系统里,国内华卓精科已实现双工作台商业化生产,但投影物镜系统仍是最难攻克的。
光刻机巨头阿斯麦CEO:我们要让中国继续落后,现在销往中国的光刻机,与尖端技术有
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