荷兰光刻机巨头 ASML 表示，现在在美国的技术封锁下，中企想获取 EUV 光刻机几乎不可能了，但是中国一直没有放弃，研发投入每年增速超过 20%。 光刻机可不是普通的工业设备，它被称为 “芯片制造皇冠上的明珠”，一台高端 EUV 光刻机光零件就有 10 万个，集结了全球顶级技术，精度相当于用飞机喷气口在米粒上刻出整部《红楼梦》，咱们平时用的手机、电脑，还有军工、人工智能领域的高端芯片，离了它根本造不出来。 这些年，美国为了遏制中国芯片产业发展，一直在疯狂施压荷兰，逼着 ASML 扩大对华禁售范围。 早在特朗普时期，美国就开始游说荷兰，到了拜登政府，更是变本加厉，警告荷兰如果敢向中国出口 EUV 光刻机，就限制 ASML 所需的美国零部件供应。 要知道，ASML 的 EUV 光刻机里，核心的光源部件就来自美国，所以即便 ASML 不愿意，也只能被迫妥协，至今都没法向中国出口一台 EUV 光刻机。 面对这样的封锁，ASML 自己也很无奈。要知道，中国连续多个季度都是 ASML 最大的销售市场，最高的时候占其全球销售额的 49%，失去中国市场，ASML 的损失可想而知。 但美国不管这些，一门心思要把我们的路堵死，可他们忘了，中国从来都不是那种被卡脖子就认输的国家。 就像 ASML 说的，我们一直没有放弃，反而在研发上不断加码，每年的研发投入增速都超过 20%，这背后既有企业的努力，也有国家的大力支持。 2025 年，央企的研发投入就达到 1.1 万亿元，连续四年超过万亿，而中央本级的科学技术支出也安排了 4264 亿元，增长 10%，所有的投入，都是为了打破国外的技术垄断。 可能有人会问，我们现在的研发进展到底怎么样了？是不是还离国际水平很远？其实不用太悲观，这些年我们的突破一直在不断出现。 就在 2025 年，余杭诞生了首台国产商业化电子束光刻机 “羲之”，精度达到 0.6 纳米，线宽 8 纳米，比肩国际主流设备。 虽然它主要用于量子芯片研发，量产效率还比不上 EUV，但至少打破了国外在这类设备上的禁运，给我们的芯片研发多了一条出路。 除了电子束光刻机，我们在核心零部件上也在不断突破。 光刻机的 “心脏” 是光源，哈尔滨工业大学已经成功研制出 13.5nm 波长的 EUV 光源，这可是 EUV 光刻机的核心技术。 上海微电子也实现了 28nm 浸没式 DUV 光刻机的量产验证，标志着我们从 90nm 制程正式迈入中高端。 当然，我们也得清醒地认识到，差距还是存在的。但这些差距，恰恰是我们前进的动力。 要知道，ASML 的技术也不是一蹴而就的，它也是经过几十年的积累，整合了全球的技术资源，才达到今天的水平。 我们现在虽然起步晚，但投入力度大，人才储备也在不断增加，而且我们有完整的工业体系，能够支撑光刻机产业链的逐步完善，这是很多国家都不具备的优势。 说到底ASML 的话，既是提醒，也是肯定。提醒我们前路艰难，想要获取 EUV 光刻机难如登天；但也肯定了我们的努力，承认我们从来没有放弃。 相信用不了多久，随着我们的不断投入和突破，一定能打破国外的技术封锁，造出属于我们自己的高端光刻机，到那时，我们就再也不用看别人的脸色。
