“光刻机没有一个国家可以做得到，美国都造不出，中国根本做不到！”“中国永远都造不出光刻机？”前年，中国物理学教授朱士尧在一次采访中直言：“美国都造不出，中国永远也造不出来！”甚至认为世界上没有一个国家能造出光刻机。 朱士尧教授2024年9月左右的访谈内容迅速传播开来。他作为中国科学技术大学物理学教授，曾长期从事相关领域研究，在那次采访中系统剖析了光刻机的技术门槛。极紫外光刻机要求光源产生13.5纳米波长，同时保持极高功率稳定；光学系统镜片表面误差需控制在原子级；工件台要在真空环境中实现纳米级定位。 ASML的供应链涉及全球5000多家企业，缺少任何一环都无法组装出商用设备。美国掌握激光光源，却依赖德国光学和日本精密部件，无法独自产出完整机型。中国当时基础积累与国际差距明显，教授据此判断，世界上没有哪个国家能单独造出顶尖光刻机。这番话基于产业现实，突出全球分工的必然性，却被部分人解读为唱衰，引发激烈争论。视频片段在多个平台流传，标题常强调“永远造不出”，播放量和评论迅速攀升。 光刻技术从上世纪中叶起步，美国和日本早期推动光学系统迭代，从接触式到投影式曝光。荷兰ASML后来整合多国资源，成为高端设备主导者：德国蔡司镜片、美国激光、日本材料、精密机械，全靠跨国协作。中国从上世纪90年代末关注半导体装备，2002年成立上海微电子装备公司，专注光刻研发。起步时面临材料薄弱、精密加工经验不足、国际专利壁垒等多重障碍。许多人看到层层垄断，就认为单一国家独立攻克极紫外波段几乎无解——高真空环境、原子级精度、稳定高功率光源，这些要求远超一国能力。 中国科研路径在悄然加速。从成熟节点入手，先站稳脚跟。上海微电子持续推进，逐步实现从90纳米到更细节点的突破。到2025年，28nm浸没式DUV光刻机进入实用阶段，良率和国产化率显著提升，年产能规划达50-100台。产业链配套同步跟进：光源系统、激光晶体、投影物镜等关键部件国产化率逐步提高，双工件台定位精度达纳米级。市场验证也在推进，多家晶圆厂引入国产设备进行测试和生产，封装领域设备已占据全球大部分份额。极紫外领域虽有差距，但采用激光诱导放电等离子体等新路线，原型机测试进展明显，目标指向2026年小批量交付。其他国家逐步减少独立投入，只有中国保持高强度资源配置。 回看朱士尧教授的判断，如今常被拿来与实际进展对照。那些“永远造不出”的声音，已在产业链一步步验证中淡化。中国路径强调从基础节点积累，再向上攀登，类似过去多项重大工程的经历，靠长期坚持和技术迭代逐步缩小差距。光刻机不是靠一夜之间攻克，而是通过体系化突破和生态构建来实现自主可控。半导体产业的核心在于持续投入与验证，谁能走得更稳，谁就掌握主动。
