中国光刻胶突袭破局！北大冷冻电镜揭开日本“卡脖子”配方秘密

快讯！快讯！ 我国在光刻胶领域取得重大突破， 日本一直觉得光刻胶这东西他们说了算，全球九成以上的高端货都攥在他们手里，想卡谁就卡谁，他们还特意限制高纯度氟化氢出口，想靠这招拖住中国芯片的发展。 北京大学的科研人员用了冷冻电镜这个技术，直接看清楚了光刻胶里面的样子，以前大家不知道为啥生产老出问题，只能一遍遍试，现在他们明白问题在哪了，树脂分子怎么聚在一起，光敏剂怎么跑偏，研发不用再瞎撞了，效率也高了不少。 国内几个大厂已经拿到这个新方案，在实验室里开始试了，良率往上走了，时间也省了不少，中芯国际那边也在同步推，7纳米以下的芯片对材料要求特别严，光刻胶不行，设备再好也没用，现在材料这边有突破，设备那边也跟上了，两边一起往前赶。 日本企业还在守着他们的配方和专利，中国这边不光是做替代，还从结构上重新设计，这不是简单模仿，是反过来拆解，美国和德国的大公司也开始坐不住了，悄悄找中国高校合作，想看看能不能搭个顺风车，日本经济产业省自己也承认，中国的进度比他们想的快得多。 光刻机和光刻胶本来就是一对搭档，没好胶，机器再厉害也使不上劲，现在中国两边一起使劲，日本那点优势慢慢被摊薄了，材料、设备、工艺全都在改，整个链条都在动，谁也说不准下一步会走到哪，但肯定不会停在原地。