“光刻机没有一个国家可以做得到，美国都造不出，中国根本做不到！”“中国永远都造不出光刻机？”去年，中国物理学教授朱士尧在一次采访中直言：“美国都造不出，中国永远也造不出来！”甚至认为世界上没有一个国家能造出光刻机。 麻烦看官老爷们右上角点击一下“关注”，既方便您进行讨论和分享，又能给您带来不一样的参与感，感谢您的支持！ 手机里那块比指甲盖还小的芯片，是怎么"刻"出来的？答案是光刻机，但围绕这台机器，有一句话让很多人卡了很久——前中科大教授朱士尧说，美国都造不出来，中国永远也造不出来。 一台顶级的EUV光刻机，零件数量超过十万个，涉及的技术方向多到离谱：光学、精密机械、电子控制、特种材料、激光物理，随便拎出一个，都得是全球顶尖水准才能撑场面，光是精度这一项，就够让人头皮发麻——在一块指甲盖大小的硅片上，刻出几纳米宽的电路线，换算一下，一根头发丝大约八万纳米粗，而芯片上的线条比头发丝细了成千上万倍，这种精度要求，不是砸钱就能买来的，背后是几十年持续不断的技术沉淀，所以，没有任何一家公司、任何一个国家，能把整条技术链自己全包圆——这是现实，不是借口。 说回"美国造不出"这个判断，其实本身就是个需要掰开说清楚的误区，ASML的EUV光刻机里，极紫外光源由美国Cymer公司提供，芯片设计离不开的EDA软件，市场大头也在美国公司手里，离子注入机、检测设备这些光刻机的"好搭档"，应用材料和KLA都是顶尖玩家，美国不是造不出光刻机整机，而是根本不需要——它已经稳稳占住了产业链的上游，控制着最关键的几个节点，从产业布局来说，让荷兰去做整机集成，自己卡住零件和软件，这才是美国真正的选择，朱士尧说的"没有一个国家能独立造出来"，本质上是在描述全球分工协作的现状，而不是在说某个国家的技术天花板，把这句话理解成"中国永远造不出"，逻辑上其实跳了一大步。 再来看中国的"零件清单"，哪些还卡着，哪些已经松动了，光刻胶这一项，之前几乎全靠日本进口，现在苏州瑞红已经能生产14纳米级别的产品，而且通过了中芯国际的实际验证，不是实验室里的样品，是真正用在生产线上的东西，精密轴承方面，哈尔滨轴承厂把精度啃到了微米级，突破了之前的技术瓶颈，光学镜头这块，长春光机所拿出了符合28纳米制程要求的方案，虽然跟德国蔡司还有距离，但至少不再是完全依赖进口，而极紫外光源，依然是最硬的骨头，清华大学和中科院的团队一直在攻关，有进展，但离真正产业化还有一段路，松动的和卡着的，都得说清楚，藏着掖着没意思。 很多人一听"28纳米"就皱眉头，觉得太落后了，但这个反应本身就说明对芯片需求的理解存在偏差。 汽车里的控制芯片、家里路由器里的处理器、工厂设备上的传感器芯片，用28纳米工艺做出来完全够用，根本不需要追5纳米，上海微电子在2022年推出的DUV光刻机，核心零件国产化率超过六成，能稳定用于这类中低端芯片的量产，这直接打破了国外在这个价位段的垄断地位，更值得关注的是，中芯国际用这台设备，配合"多重曝光"技术，把制程硬推到了14纳米，华为Mate 60 Pro用的麒麟9000S就是这么造出来的，绕了一条路，但走通了，这就是结果。 ASML的成功，建立在全球几十个国家的分工协作基础上，效率极高，但每一个环节都是潜在的风险点，美国一旦收紧出口管制，ASML卖给谁、不卖给谁，都得先过美国这一关，中国走的是另一条逻辑：把全链条一点点啃下来，光源、镜头、光刻胶、控制系统，每个环节都要有自己能兜底的方案，这条路慢得多，但不怕别人突然断供，两种模式没有对错，只是目标不同——一个追求效率，一个追求不被卡脖子。 2007年，中国第一台90纳米光刻机下线；2022年，28纳米DUV光刻机实现量产；2025年，EUV光刻机进入试生产阶段，这不是什么爆发式的弯道超车，而是在实验室里反复调试参数，在生产线上对着每一颗螺丝、每一块镜片死磕的结果，日子一天一天过，进度条一格一格往前走。 信息来源：新华网--国产22纳米光刻机治不了咱们的“芯”病！
