又出2名内鬼，损失巨大！这就叫“日防夜防，家贼难防”。在国产半导体被外部势力层层封锁、举步维艰的今天，最让人寒心的不是对手在技术上的硬碰硬，而是自己人从背后捅的这一刀。就在大家为了突破技术壁垒咬牙坚持的时候，北京屹唐半导体发生了一件让整个行业都感到脊背发凉的事：两名核心研发人员，竟然把自家辛苦搞出来的“家底”连锅端走，转手就送给了竞争对手。 国产半导体设备领域正处于关键发展阶段，北京屹唐半导体科技股份有限公司作为一家专注干法去胶和刻蚀设备的厂商，从2010年成立以来，通过收购美国Mattson Technology公司获得基础技术，并投入大量资金进行优化。等离子体源技术是其核心竞争力之一，用于产生高浓度均匀等离子体，帮助晶圆表面处理，提升芯片生产良率。公司历经八年研发，完成上千次实验，将等离子体均匀度提高到98.7%，实现纳米级精度。 这项技术已应用于5nm生产线，并在全球干法去胶市场占据第二位置。屹唐股份强调自主创新能力，相关技术广泛用于蚀刻和表面改性设备。两名涉案员工在Mattson子公司工作，负责等离子体产生和处理方法，掌握设备结构和工艺参数。他们签署严格保密协议，承诺保护技术信息。公司整体环境注重保密，确保技术不外泄。这种背景中，外部封锁加剧了内部保护难度。 两名员工在子公司任职期间行为异常。公司审计发现，他们离职前半年多次从内部系统导出数据，累计37GB，包括实验记录、工艺参数和设计图纸。这些数据相当于完整技术方案。导出通过外接存储设备完成，系统日志记录了操作轨迹。公司政策要求离职归还资料，但两人未报告下载活动。离职手续后，他们迅速加入应用材料公司，新岗位与原职责相似，继续从事等离子体研发。应用材料作为全球半导体设备领先企业，此举涉及直接竞争。 入职不久，两人以个人名义向中国国家知识产权局提交发明专利申请，优先权日期紧挨离职后，内容聚焦等离子体源方法。专利文本中关键指标如均匀度和处理条件，与屹唐原有方案一致。比对显示，专利中40项参数与内部记录吻合，工艺思路基本相同，仅少量调整。公司认定这非独立研发，而是基于窃取资料的复制。应用材料招聘这些员工后，利用技术推广产品，向中国客户销售类似设备，进一步扩大影响。 屹唐股份技术秘密源于多年投入，包括收购成本和二次开发。等离子体源用于干法刻蚀等关键工序，直接决定芯片良率。外泄事件暴露行业风险，员工跳槽携带机密，削弱本土企业竞争力。应用材料此前曾指控屹唐子公司挖角其17名工程师，此案形成互诉格局。两名员工行为违反保密协议，专利申请试图将技术据为己有。公司收集证据，包括访问日志和文件痕迹，证明链条完整。整个过程从数据导出到专利提交，形成系统侵犯。公司强调，这类事件拖慢国产替代步伐，影响研发积极性。行业需加强保密措施，避免类似损失。 公司内部审计审查服务器日志，发现异常导出记录。技术人员比对专利文本与自家资料，确认参数重合。证据收集包括账号轨迹和存储设备痕迹，形成完整证明链。公司向北京知识产权法院提交诉讼材料，法院受理案件，要求应用材料停止使用技术，处理涉案资料，并赔偿9999万元。案件已立案，但未开庭审理。这起事件对屹唐造成了市场优势的削弱，客户对技术独占性产生疑虑。行业整体面临保护研发成果的考验。索赔金额考虑实际损失并适用3倍惩罚性赔偿，体现知识产权保护力度。 国产半导体发展离不开技术积累，但内部泄密风险不容忽视。这起事件警示企业加强保密体系，避免家贼难防。整个行业需共同维护创新环境，推动国产替代进程。
