半导体材料的五大核心赛道概念汇总，收藏！！
1. 沪硅产业：国内12英寸硅片龙头，实现大尺寸硅片批量供货。
2. TCL中环：硅片产能规模领先，覆盖8英寸和12英寸产品。
3. 立昂微：涵盖硅片、功率器件等，硅片业务持续扩张。
4. 中欣晶圆：专注半导体硅片，8英寸和12英寸产品推进国产替代。
5. 众合科技：涉及硅材料及智能制造业务。
6. 中晶科技：主营半导体硅材料，覆盖分立器件用硅片。
7. 扬杰科技：以功率半导体为主，硅片业务为辅。
8. 有研半导体：硅材料研发与生产，覆盖4-12英寸产品。
二、电子特气领域
1. 华特气体：国内唯一通过ASML和GIGAPHOTON认证，产品用于14nm/7nm/5nm制程。
2. 南大光电：实现9N级高纯磷烷、砷烷量产，替代进口。
3. 中船特气：含氟电子特气（如三氟化氮、六氟化钨）产能全球前列。
4. 金宏气体：超纯氨国内市占率超50%，布局多品种特气。
5. 昊华科技：含氟特气、六氟丁二烯等产品突破。
6. 和远气体：电子特气及工业气体供应商。
7. 凯美特气：专注电子特气及稀有气体纯化。
三、光掩膜版领域
1. 中微掩模：专注高端掩膜版，已实现28nm制程量产。
2. 路维光电：布局14nm先进制程掩膜版技术。
3. 龙图光罩：90nm产品量产，65nm产品送样验证。
4. 清溢光电：180nm/150nm产品量产，推进130nm-28nm工艺开发。
5. 菲利华：国内唯一可生产G8代光掩膜版基材的企业。
6. 冠石科技：55nm产品交付，40nm产线通线，规划28nm量产。
四、光刻胶领域
1. 南大光电：ArF光刻胶产品覆盖先进制程。
2. 彤程新材（北京科华）：KrF光刻胶国内领先。
3. 华懋科技（徐州博康）：高端光刻胶及单体材料供应商。
4. 晶瑞电材（苏州瑞红）：g线/i线光刻胶量产，布局KrF/ArF。
5. 上海新阳：光刻胶及配套材料研发。
6. 容大感光：PCB光刻胶为主，半导体光刻胶推进中。
7. 鼎龙股份：布局半导体光刻胶及CMP材料。
配套产业链企业：
1.芯源微（涂胶显影设备）
2.七彩化学（光刻胶中间体）
3.茂莱光学（光学系统）
4.怡达股份（PM溶剂市占率超40%）
5.西陇科学（光刻胶配套化学品）
五、CMP抛光材料领域
1. 安集科技：国内抛光液龙头，全球市占率8%，突破先进制程。
2. 鼎龙股份：抛光垫国内市占率约20%，打破海外垄断。
3. 上海新阳：布局CMP抛光液及清洗剂。
4. 江丰电子：靶材龙头，延伸CMP耗材领域。
5. 华海清科：CMP设备及耗材一体化布局。
