FT消息称中芯国际正在测试由上海初创公司宇量昇制造的28纳米深紫外(DUV)光刻机,利用“多重曝光”生产7纳米芯片。
知情人士表示,尽管试验初步结果令人鼓舞,但尚不清楚该机器是否以及何时能用于大规模芯片生产。宇量昇有部分零部件来自外国,但公司正努力实现所有部件国产化。
FT消息称中芯国际正在测试由上海初创公司宇量昇制造的28纳米深紫外(DUV)光刻机,利用“多重曝光”生产7纳米芯片。
知情人士表示,尽管试验初步结果令人鼓舞,但尚不清楚该机器是否以及何时能用于大规模芯片生产。宇量昇有部分零部件来自外国,但公司正努力实现所有部件国产化。
评论列表
猜你喜欢
【5评论】【12点赞】
【22评论】【44点赞】
【1评论】【2点赞】
【12评论】【6点赞】
作者最新文章
热门分类
社会TOP
社会最新文章
坚胜
透露出公司,就不可能大批量产,除非全国产零部件
用户12xxx24
宇量升是生产光源的 离光刻机远着呢