价值投资日志[超话] 炬光科技大涨点评:光刻机领域布局的预期差正在得到关注
在美国加强对EUV光刻系统和相关技术的出口管制的情况下,中国芯片设备行业取得了突破。8月1日,普林科技(杭州)向专注于专业芯片制造的客户发运了其首台国产半导体级步进重复纳米压印光刻(NIL)工具PL-SR系列。如果NIL被证明可用于大规模生产先进芯片,它可能会挑战ASML在下一代光刻领域的主导地位。这一里程碑也标志着中国在实现高端芯片制造更大自主权方面取得了进展。
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在美国加强对EUV光刻系统和相关技术的出口管制的情况下,中国芯片设备行业取得了突破。8月1日,普林科技(杭州)向专注于专业芯片制造的客户发运了其首台国产半导体级步进重复纳米压印光刻(NIL)工具PL-SR系列。如果NIL被证明可用于大规模生产先进芯片,它可能会挑战ASML在下一代光刻领域的主导地位。这一里程碑也标志着中国在实现高端芯片制造更大自主权方面取得了进展。
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