截止2024年,国产光刻胶渗透率: g线和i线20%, KrF不足5%, ArF低于1%。 ArF光刻胶验证阶段主要分为PRS(光刻胶性能测试)、STR(小试)、MSTR(批量验证)及Release(通过验证)四个阶段。 树脂、添加剂、光引发剂和溶剂是光刻胶主要原料,光刻胶的国产替代离不开核心材料稳定可控。全球44家光刻胶原料供应商,中国有13家,主要覆盖较低的PCB光刻胶专用化学品领域。

截止2024年,国产光刻胶渗透率: g线和i线20%, KrF不足5%, ArF低于1%。 ArF光刻胶验证阶段主要分为PRS(光刻胶性能测试)、STR(小试)、MSTR(批量验证)及Release(通过验证)四个阶段。 树脂、添加剂、光引发剂和溶剂是光刻胶主要原料,光刻胶的国产替代离不开核心材料稳定可控。全球44家光刻胶原料供应商,中国有13家,主要覆盖较低的PCB光刻胶专用化学品领域。

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Laoou
南大光电ArF光刻胶自主可控,国家应加大补贴,让他们扩大产能