阿斯麦CEO：中国光刻机技术落后10-15年，如果没有我们的EUV极紫外刻帮助，中国几乎不能造出来3-5nm工艺，同时表示断供EUV，就是为了防止中国获得先进技术。 了解内情的人都清楚，EUV光刻机可是先进芯片制造的“卡脖子”设备，单台成本就高达数亿美元，技术复杂性远超普通制造设备，尤其是最新的高数值孔径EUV光刻机，更是目前全球唯一能制造3nm及以下先进芯片的核心工具。 阿斯麦如今在EUV领域的垄断地位，让富凯有足够的底气说出这样的话，毕竟目前全球范围内，还没有任何一家企业能造出可以和阿斯麦EUV抗衡的设备。 富凯还在采访中透露，目前阿斯麦对华出口的设备，比最新的高数值孔径光刻技术整整落后了八代，技术水平差不多相当于阿斯麦2013、2014年销往西方客户的产品，这也印证了他口中“落后10到15年”的说法。 不过他的表态里也藏着一丝微妙，他坦言中国绝不会接受在技术方面被“卡脖子”的处境，毕竟中国是一个拥有14亿人口的大国，谋求技术进步是不争的事实。 富凯甚至隐晦表示，西方现在要考虑的，不是要不要对华限制，而是要把这种技术差距拉大到何种程度，是让中国落后5年、10年还是15年。 他的这番话，看似是在强调阿斯麦的技术优势，实则也流露出一丝担忧——要是西方过度收紧限制，把中国逼至绝境，反而会倒逼中国彻底摆脱对西方技术的依赖，下定决心自主研发替代产品。 要知道，阿斯麦之所以敢断供EUV，背后也有美国的施压，这些年美国一直在持续向荷兰施压，要求限制阿斯麦对华出售先进芯片制造设备。 在美方的禁令影响下，阿斯麦如今不仅被禁止向中国出口所有EUV设备，就连最先进的深紫外光刻设备，也没法对华出口，而这一切的核心，都是为了遏制中国先进芯片产业的发展。 富凯也承认，中国已经在很多领域实现了自主研发，假以时日，中国甚至可能反过来向西方出口这些产品，这也是他内心深处的顾虑之一。 事实上，中国上海微电子装备公司目前已经在研发国产光刻机，虽然该公司的设备比阿斯麦落后10至15年，但正在政府支持下大力追赶，这也是阿斯麦不得不重视的一点。 富凯还坚持认为，光刻技术仍然很难被完全替代，而且整个生态系统的关联性极强，不光关乎光刻技术本身，还涉及光刻设备如何融入客户的整个生产流程，这也是阿斯麦的核心优势所在。 说到底，富凯的这番表态，既有对自身技术优势的自信，也有对中国自主研发能力的忌惮，而阿斯麦的断供行为，本质上就是为了守住自身的垄断利益，防止中国在光刻机领域实现突破后，打破现有的产业格局。 毕竟对于阿斯麦来说，中国市场其实十分重要，近年来中国大陆已经成为阿斯麦的最大市场，断供EUV虽然能短期遏制中国技术进步，但从长远来看，也可能让阿斯麦失去这个庞大的市场。 不过目前来看，阿斯麦还是选择了站在西方阵营，听从美国的施压，坚持断供EUV设备，用这种方式维护自身的技术垄断，阻止中国获得先进的光刻技术，进而遏制中国先进芯片产业的发展。
