“光刻机没有一个国家可以做得到，美国都造不出，中国根本做不到！”“中国永远都造不出光刻机？”去年，中国物理学教授朱士尧在一次采访中直言：“美国都造不出，中国永远也造不出来！”甚至认为世界上没有一个国家能造出光刻机。 这些直白到近乎决绝的表述，不光给满心期待中国突破光刻机技术的民众泼了一盆冷水，更引发了全网范围内的激烈争议，尤其是他那句“世界上没有一个国家能造出光刻机”，更是颠覆了不少人的认知，一时间支持与反驳的声音吵得不可开交。 不可否认，光刻机的制造难度确实大到超乎想象，这项技术集合了光学、机械、电子、材料等多个领域的顶尖成果，涉及上万个零部件，每个环节都要求极致的精度，从光源系统到镜头组件，从工作台到控制系统，任何一个部分出现短板，都造不出合格的光刻机。 全球范围内，真正能造出高端光刻机的企业寥寥无几，荷兰的ASML是行业内的绝对巨头，占据了高端市场的垄断地位，即便是工业实力雄厚的美国，也没有完全自主制造高端光刻机的能力，在很多核心部件上依然需要依赖国际合作，从这个角度看，朱士尧教授说“美国都造不出”，确实有一定的事实依据，并非完全的危言耸听。 但他说“世界上没有一个国家能造出光刻机”，显然有些绝对，虽然没有哪个国家能完全不依赖外部合作造出高端光刻机，但这并不等于“造不出光刻机”，除了荷兰ASML，日本的佳能、尼康也能制造中低端光刻机，中国也早已实现了中低端光刻机的自主量产。 而且，ASML的光刻机也不是荷兰一个国家的功劳，其核心部件来自全球多个国家，是全球产业链合作的产物，把“无法完全自主制造高端光刻机”等同于“没有一个国家能造出光刻机”，这种表述无疑存在逻辑上的偏差，也忽视了光刻机领域不同技术层次的差异。 更关键的是，说“中国永远也造不出来”，更是低估了中国的研发决心和科研实力，这些年，面对外部的技术封锁，中国从来没有选择退缩，而是把压力转化为动力，在光刻机领域持续投入、刻苦攻关，从国家层面到企业层面，都把光刻机研发提升到了战略高度，调集优质资源支持相关研究，科研人员夜以继日地奋战，在多个关键技术环节取得了突破性进展。 如今，中国已经能自主制造28纳米及以上制程的中低端光刻机，满足了部分芯片制造的需求，在14纳米等更先进制程的研发上也取得了积极进展，这些实打实的成果，就是对“中国永远造不出来”这种言论最有力的反驳。 朱士尧教授的言论之所以引发争议，核心在于大家对中国科技发展的期待与现实难度之间的碰撞，不可否认，中国在光刻机领域与国际顶尖水平还有不小的差距，要实现高端光刻机的完全自主可控，还有很长的路要走，需要克服无数的技术难关，但这并不意味着我们要放弃，更不意味着我们永远无法实现突破。 回顾中国的科技发展历程，从两弹一星到载人航天，从高铁技术到5G通信，我们攻克的每一个技术难关，都是在外界的质疑声中实现的，那些曾经被认为“中国做不到”的事情，最终都被我们一一实现，光刻机领域自然也不会例外。 有人觉得，朱士尧教授的言论是在提醒大家认清现实，避免盲目乐观。这种出发点或许是好的，但认清现实不等于消极悲观，更不等于否定未来的可能性，科技攻关从来都不是一蹴而就的事情，需要长期的积累和坚持，过程中必然会遇到挫折和困难。 我们承认差距，是为了更好地找准方向、奋起直追，而不是为了自我否定、放弃努力，过度放大技术难度，散布“永远做不到”的言论，不仅会打击科研人员的积极性，也会动摇民众对国家科技发展的信心，这种负面影响不可小觑。 从国际形势来看，外部的技术封锁反而让我们更加清醒地认识到，核心技术是买不来、讨不来的，只能靠自己研发，这些年，中国在芯片产业链上的自主化进程不断加快，从芯片设计到制造封装，从材料到设备，各个环节都在发力。 虽然目前还面临不少困难，但随着研发投入的持续增加、科研人才的不断积累、产业链的不断完善，中国在光刻机领域的突破只是时间问题，而且，中国拥有全球最大的芯片市场，这为光刻机的研发和迭代提供了得天独厚的优势，只要我们坚持下去，就一定能实现从跟跑到并跑、再到领跑的跨越。 当然，我们也不能盲目乐观，更不能急于求成，光刻机的研发是一项系统工程，需要循序渐进、稳步推进，每个技术环节的突破都需要时间和耐心，不能指望一口吃成个胖子。 我们要尊重科学规律，给予科研人员足够的时间和空间，让他们能够心无旁骛地投入到研发工作中，同时，我们也要加强国际合作，在坚持自主研发的基础上，积极吸收借鉴国际先进技术和经验，加速研发进程。 你觉得中国在光刻机领域实现全面突破还需要多久？来，评论区聊聊你的看法！
